삼성전자 시스템 반도체에 10년간 171조원 투자 확정!!

삼성전자는 5월 13일 이 회사 평택공장에서 열린 민·관 합동 ‘K-반도체 벨트 전략 보고대회’에서 2030년까지 시스템 반도체 분야에 대한 투자를 171조원으로 늘린다고 밝혔습니다. 자세히 알아보겠습니다!

 

삼성전자 시스템 반도체에 10년간 171조원 투자 확정!!

삼성전자는 13일 평택캠퍼스에서 열린 'K-반도체 벨트 전략 보고대회'에서 향후 2030년까지 시스템반도체 분야에 대한 추가 투자계획을 발표했습니다. 

정부가 추진하려는 세계 최대 반도체 공급망 구축과 대기업 연구개발(R&D) 투자비 최대 40% 세액공제 등의 종합 지원책에 대해선 환영의 뜻을 나타냈습니다.

우선 시스템반도체 리더십 조기 확보를 위해 '시스템반도체 비전 2030' 발표 당시 수립한 133조원의 투자계획에 38조원을 추가해 2030년까지 총 171조원을 투자합니다. 

첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 집중하는것 입니다!.

2019년 4월 정부는 삼성전자 화성사업장에서 '시스템반도체 비전 선포식'을 열고 시스템반도체 육성을 통해 종합 반도체 강국으로 거듭나겠다는 계획을 밝혔습니다. 

삼성전자는 이때 '시스템반도체 비전 2030'을 제시하며 133조원 투자계획을 발표했습니다.

 

비전 선포식 이후 지난 2년간 삼성전자를 비롯한 반도체 제조 기업과 팹리스, 공급망의 핵심인 소재,부품,장비 업체, 우수 인재 육성을 담당하는 학계 등 우리나라 반도체 생태계 주요 구성원 간의 상호 협력이 활성화되며 비전 달성을 위한 기반도 착실히 다져졌습니다.

삼성전자는 국내에서도 메모리 반도체 '초격차' 전략을 가속화합니다.

삼성전자 김기남 부회장은 이날 행사에서 현재 공사가 한창인 평택 3라인(P3)을 2022년 하반기에 완공하고 본격적인 생산에 들어갈 것이라고 공개했습니다.

평택 P3 라인은 공장의 길이가 700m로 P2(400m) 라인의 1.75배에 달하는 것으로 알려져 있습니다.

 

클린룸의 규모는 축구장 면적의 25개 크기로 현존하는 단일 반도체 라인 중 세계 최대 규모 입니다.

삼성전자는 이 곳에 EUV 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품을 비롯한 최첨단 공정의 반도체를 생산할 계획입니다.

P3라인의 전체 투자 규모는 각각 30조원 가량이 투입된 P1, P2보다 훨씬 클 것으로 관측됩니다.

대당 2000억원이 넘는 극자외선(EUV) 장비를 많이 쓰는 삼성전자의 라인 특성을 고려할 때 P3 전체 투자비가 줄잡아 50조원을 넘어설 것으로 보고 있습니다.

 

삼성전자는 앞으로 차세대 D램에 EUV 기술을 선도적으로 적용해 나갈 계획입니다.

삼성전자가 계속 승승장구하길 기원 합니다!